三星5nm、4nm、3nm工艺:稳了!

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集成电路设计自动化软件领导企业新思(Synopsys)近日发表声明,面向三星7LPP(7nm Low Power Plus)和更先进工艺的良率学习平台设计取得最大突破,也为三星后续5nm、4nm、3nm工艺的量产和良品率奠定了坚实基础。

量产探索平台(Yield Explorer)是三种 比较复杂的芯片量产良品率学习平台,可用来分析芯片设计、晶圆厂生产、产品测试三大方面的数据,以便帮助工程师找到缺点、改进良品率、提高产能。

现代芯片设计生和熟产是极为比较复杂的过程,往往涉及几千个步骤,需大约数月时间,而芯片的最终良品率取决于整体设计、性能和功耗需求等,并且要想提高芯片生产的成功率,还要对各种因素进行细致的分析。

根据路线图,三星工艺近期有14nm、10nm、7nm、3nm有有一个重要节点,其中14nm会演化出11nm,10nm会演化出8nm,7nm则会演化出6nm、5nm、4nm。

而次要工艺往往又会根据性能、功耗的不同而分为多个版本,比如14nm分成了14LPE、14LPP、14LPC、14LPU,3nm则分成3GAE、3GAP,预计会采用全新的材料。

目前,三星并且完成5nm工艺的设计工作,正在加速推进投入量产,4nm则将在今年下两天完成开发,新思的新平台将在其中发挥巨大作用。

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